PECVDⅡ 微波等离子体系统
所属分类
化学气相沉积设备 (CVD)
产品描述
参数
一、主要用途:
该设备主要用于在玻璃瓶内表面沉积SiO2薄膜。
二、技术指标:
1、极限真空度:≤6×10-4Pa,真空漏率:5×10-6 PaL/S;
2. 三种不同尺寸样品,最多一次可同时做6个玻璃瓶样品;玻璃瓶外表面在大气中,内表面抽真空;
3. 真空室带有加热功能,可加热到100℃,通过碘钨灯加热;
4. 气体流量控制系统:共三路进气,分别为氧气、氩气和硅烷,气体流量可设定可控制;为了精确控制气体流量,采用质量流量计控制,流量范围:0~200 sccm ;
5. 设备带有断水断电联锁保护;
6. 微波源:微波频率2.45GHz,输出功率:0~500W,脉冲连续可调。
三、系统组成:
该系统主要由真空抽气及测量系统、真空室系统、样品架系统、微波等离子体系统、样品加热出气系统、微波源外罩系统、气体流量控制系统、电控系统及辅助系统组成。
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TA – PECVDⅠ系统
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