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化学气相沉积设备 （CVD）
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助压层制备装置
zhuyaceng

助压层制备装置

所属分类
化学气相沉积设备 （CVD）
zhuyaceng
产品描述
参数

1、系统极限真空度：≤1.0×10-5Pa。

2、系统漏率：≤1.0×10-8Pa.L/s。

3、工作气压调节范围：1～95Pa；连续工作时间≥100h。

4、配置进口AE射频电源一套。

5、上下电极板：手动调节。

6、真空室。

7、气路：系统共有5路气体。

8、样品台：样品台有两种，平面样品台和微球样品台。

9、使用程序控制分子泵、机械泵的启停，控制各个电磁阀的开闭。

10、运行保护系统。

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