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FF 多道滤波荧光谱仪支撑调节和屏蔽系统
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FF 多道滤波荧光谱仪支撑调节和屏蔽系统

FF 多道滤波荧光谱仪支撑调节和屏蔽系统  一、主要用途:保密。二、技术指标:1.均温区尺寸:80(内径)×120mm;2.极限真空度:8.0×10-7Pa;3.恢复真空度:2×10-4Pa(2h);5×10-6Pa(6h);4.工作真空度:8×10-5Pa(1000℃退火温度下);5.整个系统漏率:包括气路部分)2×10-8Pa.L/S;6.加热总功率:10KW;7.最高温度:不低于1500℃,
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产品描述
参数

FF  多道滤波荧光谱仪支撑调节和屏蔽系统  

一、主要用途:保密。
二、技术指标:
1. 均温区尺寸:80(内径)×120mm;

2. 极限真空度:8.0×10-7Pa;

3. 恢复真空度:2×10-4Pa(2h);5×10-6Pa(6h);

4. 工作真空度:8×10-5Pa(1000℃退火温度下);

5. 整个系统漏率:包括气路部分)2×10-8Pa.L/S;

6. 加热总功率:10KW;

7. 最高温度:不低于1500℃,在1000℃可以正常工作24h,采用分段程序控温,温度上冲不超过1%;

8. 程序控温,升温速率从0.1℃~30 ℃可控。 加热均匀区不小于Φ80mm×120mm,均温区温度差不超过±1℃/0~800℃和±1.5℃/801~1500℃。

三、系统组成:

    主要由三维调节支架系统、真空室管道系统、铅屏蔽室系统、探测器前端屏蔽系统系统、真空测量仪系统、波纹管组件、荧光片组件等组成。

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