磁控溅射镀膜机设备
所属分类
磁控溅射镀膜系统
产品描述
参数
一、主要技术要求:
1、真空度指标:
1.1、保证真空室极限真空度≤6.0×10-5 Pa。
1.2、系统漏率:≤5.0×10-8 PaL/S。
1.3、真空抽气机组:采用分子泵作为主抽泵,机械泵作为前级泵,配有真空计、阀门以及管道,组成真空抽气系统。
2、压力控制:实现镀膜过程中气压在0.1~3.0 Pa范围内的有效调节。
3、磁控靶及电源系统:
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掺杂Be靶丸涂层装置
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磁控溅射涂层装置
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