本套磁控溅射涂层装置采用多弧离子镀和磁控溅射的方法在颗粒表面制备金属涂层并且兼顾在长度小于20 cm，管径小于1.5 cm的细长管外壁沉积涂层的需求进行设计，主要由真空抽气及测量系统、镀膜压力控制系统、真空腔体系统、脉冲磁过滤等离子源、样品架系统、磁控靶及电源系统、气路系统、电控系统及辅助部件组成。 1、真空抽气及测量系统 1.1、主要技术指标 （1）系统极限真空度优于1.0×10-5Pa，系统漏率优于1.0×10-7Pa•L/s； （2）系统压升率：0.624Pa/h； （3）从大气抽到5.0×10-3Pa时， 时间优于30分钟； 2、压力控制系统       压力控制方式是通过进口高精度薄膜规与控制电动闸板阀阀板开合的大小来实现压力控制。在系统计算机上输入板阀开关大小实现系统压力调节功能，保证系统镀膜实验时腔室内部压力的稳定性。