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LJS-1120 离子束溅射镀膜系统

一、系统用途:   主要利用RF离子源溅射原理,镀制光学薄膜。二、技术指标: 1.真空室极限真空度:5×10-5Pa,漏率:小于6.67×10-7Pa.L/S;真空测量:真空测量采用数显复合真 空计,量程:1×105Pa~1×10-5Pa; 2.系统结构:Φ1120×970mm(内部尺寸)圆通立式前开门不锈钢结构; 3.真空室容积约1.1m3; 4.工件架:工件架两套,分别放置Φ200mm样品3个
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产品描述
参数

一、系统用途:

    主要利用RF离子源溅射原理,镀制光学薄膜。

二、技术指标:

 1.真空室极限真空度:5×10-5Pa,漏率:小于6.67×10-7Pa.L/S;真空测量:真空测量采用数显复合真

 空计,量程:1×105Pa~1×10-5Pa;

 2.系统结构:Φ1120×970mm(内部尺寸)圆通立式前开门不锈钢结构;

 3.真空室容积约1.1m3

 4.工件架:工件架两套,分别放置Φ200mm样品3个,Φ500mm样品1个;镀Φ200样品时,自转公转速

 度:0~20转/分;镀Φ500时,公转速度:0~10转/分;

 5.离子源:RF16cm溅射离子源一套,RF12cm辅助离子源一套,中和枪两套(Veeco);

 6.水冷转靶:有效尺寸Φ350;可装3快靶材,120°定位;步进电机带动旋转180°;

 7.气路:气路质量流量控制,范围:0~50sccm;重复精度±0.2%,准确度±0.2%;

 8.计算机系统:具有控制抽气系统功能、控制气路系统功能、控制样品架旋转及定位功能、控制转靶旋

 转及定位功能。

三、系统组成:
    系统主要由真空获得系统、测量系统、溅射室系统、工件架系统、离子源系统水冷转靶、气路系统、挡板系统、台架系统、烘烤照明系统及电控系统等组成。

 

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