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光耦合场发射测试台

一、设备用途:用于各种材料和微纳米结构的场发射性能测试。二、设备主要技术指标:1、采用单室结构,不锈钢材料,球形结构;2、空载情况:极限真空优于8×10-7 Pa,真空度优于1×10-5 Pa;安装三维可动载物台时,和光纤馈入法兰时,真空度优于5×10-4 Pa;  系统漏率为:1×10-8PaL/s(无氧铜密封情况下);3、腔内载物台:数量:1个,样品最大尺寸为5cm×5cm,要求三维可动,XY
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产品描述
参数

一、技术指标:

1、采用单室结构,不锈钢材料,球形结构;

2、空载情况:极限真空优于8×10-7Pa,真空度优于1×10-5Pa;安装三维可动载物台时,和光纤馈入法兰时,真空度优于5×10-4Pa;

  系统漏率为:1×10-8PaL/s(无氧铜密封情况下);                 

3、高压探针:腔内设置有高压探针,且高压探针与样品之间间距可调;

4、电极法兰盘:数量:1个,规格:10针;另设置CF63高压电极法兰,2芯,高压电极可耐压>5000V;

5、激光引入方式:要求同时配备两种引入方式:I.通过有光纤接口的法兰;II.通过石英光学窗;

二、系统组成:

该系统主要由真空室、真空抽气及测量系统、样品台系统、窗口与法兰组件系统、烘烤照明系统、电控系统、辅助系统等部分组成。

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