超高真空脉冲激光溅射沉积室系统
所属分类
薄膜制备设备 （PVD）
产品描述
参数
一、主要技术指标：
1. 采用双室结构（镀膜室+样品室），不锈钢材料，磁力传递进行交接；
2. 激光溅射沉积室，极限真空度优于：8.0×10-8Pa；工作真空度：40分钟内从大气抽到5×10-4Pa；系统漏率为：1×10-7PaL/s；
样品室极限真空度优于：8.0×10-4Pa；工作真空度：40分钟内从大气抽到5×10-3Pa；系统漏率为：1×10-7PaL/s;
3. 样品架可加热及连续旋转，加热温度：800ºC±1ºC（2个加热器，其中1个备用加热器），旋转速度为：0～30转/分；
样品最大尺寸为Ф30㎜一个（可放置4个5mm*5mm的样品）；计算机控制转速；样品带有电动挡板装置，计算机控制；
4. 靶材尺寸：Ф20×3㎜；尺寸可调；共四块，四块靶材可公转换位同时靶材可自转，自转速度为：0～30转/分，连续旋转；计算机控制；
5. 样品与靶之间的距离为25mm～100mm；
6. 样品与靶之间的夹角为30°；
7. 激光入射窗口2个：Ф50㎜
二、设备组成：
主要由激光沉积室、样品室、真空抽气及测量系统、样品台及加热旋转系统、激光旋转靶台系统、窗口与法兰组件系统、电控系统、配气系统、辅助系统等部分组成。
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