多元有机金属沉积系统
一、设备目的：该设备主要用于蒸镀金属或者有机无机材料。
二、技术要求：
1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为Φ450×530mm，不锈钢材料，圆柱形立式结构，镀膜腔室上盖可开启并电动开启，便于清洗真空室内部。
2、抽气系统：采用国产分子泵+国产机械泵组成抽气系统；
2.1、真空度：镀膜室的极限真空≤8.0×10-5Pa；
2.2、工作真空度：系统冲入干燥氮气后（镀膜室处于大气状态，关闭闸板阀，不关闭分子泵），利用旁抽以及主抽30min后可达到工作真空度：5.0×10-4Pa；
2.3、系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
3、热蒸发系统：
两种蒸发源：一种是采用束源炉蒸发方式，一种是金属蒸发舟方式蒸发；
3.1、束源炉蒸发：共两个束源炉，用于有机或无机材料的蒸发；
3.1.1、安装方式：束源炉安装真空室下盖上，采用从下向上的沉积方式镀膜；
3.1.2、加热温度：加热温度1000℃,控温精度为：±1℃，程序控温，可调可控；
3.1.3、坩埚材料：石英坩埚，石英坩埚容积10cc；
3.1.4、与样品距离：束源炉中心指向样品中心，与样品垂线的夹角
3.2、金属舟蒸发：
共有四个金属舟蒸发源，用于金属材料的蒸发（如Au、Ag、Al等金属材料）；
3.2.1、安装方式：金属蒸发源安装真空室下盖上，采用从下向上的沉积方式镀膜；
3.2.2、蒸发舟：金属钨舟，用于蒸发如Au、Ag、Al等金属材料；
3.2.3、蒸发源与样品距离：采用样品固定不动,金属蒸发源上下升降的方式实现样品与蒸发舟的距离在150～250mm之间可调（蒸镀Au距离可调制150mm）；
3.2.4、快速挡板：金属蒸发源带有气动挡板，保证挡板快速开启；
3.2.5、蒸发控制电源：两个金属舟共用一个加热电源，即可同时使用，也可相互切换；
3.3、束源炉与金属蒸发源之间安装防污板，防止镀膜时相互污染。
4、样品架系统：
4.1、样品架可放置126X126矩形样品（最大）一个；
4.2、样品可旋转，旋转速度为：1～30转/分，速度连续可调；
4.3、样品可加热，加热温度为：室温～400℃，温度可调可控；
4.4、安装：样品安装在真空室的上盖上，蒸发源安装在真空室的下盖上，向上蒸发镀膜。
5、设备带有国内高精度单探头膜厚测试仪一台，安装接口CF35，带气动挡板。
6、系统可通过触摸屏控制，自动化程度高，实现简易操作；系统带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
7. 实验室应配有冷却循环水机，为真空泵、膜厚测试仪冷却。
三、主要组成：
该设备主要由真空抽气及测量系统、镀膜室系统、热蒸发系统、样品台系统、膜厚测试仪系统、辅助系统、电控系统等组成。
产品展示
总 机：024-23758583
传 真：024-89422961
总经理电话：13804984297/024-23758583-607
市 场 部（售后服务）：024-23758583-610 13840375510
地址：沈阳市苏家屯区大淑堡瑰香街83-5号
024-23758583
在线留言 