激光分子束外延进样室改造
所属分类
薄膜制备设备 （PVD）
产品描述
参数
一、技术指标：
1、真空度：预处理室、进样室极限真空度≤1×10-6Pa；系统漏率：1×10-7PaL/S；
2、预处理室：预处理室主要由真空室主体、观察窗、可升降样品台组件、加热退火炉及控温、抽气系统等组成；
3、样品台：样品尺寸为3英寸，一次可放置一片，样品台可手动升降调节；
4、加热炉及控温：样品可加热到1000℃，控温精度±1℃；
5、真空室尺寸为：Ø200×200（mm）；
二、系统组成：
三室立式并联门结构，一个进样室，一个预处理室，一个是镀膜室（已有）；三室之间通过CF100的手动闸板阀连接，进行样品的传递和交接；
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脉冲激光沉积系统
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