分子束外延设备（MBE ⅢB设备）
所属分类
薄膜制备设备 （PVD）
产品描述
参数
一、技术指标：
1.极限真空：6.7×10-8Pa
2.系统结构：Φ300×250（mm）圆形不锈钢；
3.样品台：三工位，可公转自转，可升降调节，最高可加热至800℃；
二、系统组成：
本系统主要由真空抽气系统、真空室、进样室、样品台系统加热及控温系统等组成。
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激光分子束外延进样室改造
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无
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