四工位排气台
所属分类
真空排气台设备
产品描述
参数
一、主要用途:
用于半导体器件的真空排气。
二、技术指标:
极限真空度:6.7×10-6Pa;
工作真空度:5×10-4Pa(真空室烘烤400℃,10小时内)。
三、系统组成:
本设备由真空排气机组、真空测量系统、真空室、铟封室、真空排气室、烘烤系统、台架系统、电控系统等组成。
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超高真空无油排气台(单工位)
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高真空无油排气台
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