超高真空磁控溅射设备
所属分类
磁控溅射镀膜系统
产品描述
参数
1、真空获得及测量系统
1.1、系统工作真空度：≤6×10-5Pa（由甲方负责）；
1.2、系统真空漏率：≤1.0×10-7Pa•L/s（由乙方负责）；
1.3、系统采用分子泵+干泵组成真空抽气机组，分子泵及前级干泵由甲方自备；
1.4、真空测量采用全量程真空计进行测量。
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倍增级磁控溅射镀膜机
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磁控溅射仪
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