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磁控溅射镀膜机设备

一、主要技术要求: 1、真空度指标: 1.1、保证真空室极限真空度≤6.0×10-5 Pa。 1.2、系统漏率:≤5.0×10-8 PaL/S。 1.3、真空抽气机组:采用分子泵作为主抽泵,机械泵作为前级泵,配有真空计、阀门以及管道,组成真空抽气系统。 2、压力控制:实现镀膜过程中气压在0.1~3.0 Pa范围内的有效调节。 3、磁控靶及电源系统:
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产品描述
参数

一、主要技术要求:

1、真空度指标:

1.1、保证真空室极限真空度≤6.0×10-5 Pa。

1.2、系统漏率:≤5.0×10-8 PaL/S。

1.3、真空抽气机组:采用分子泵作为主抽泵,机械泵作为前级泵,配有真空计、阀门以及管道,组成真空抽气系统。

2、压力控制:实现镀膜过程中气压在0.13.0 Pa范围内的有效调节。

3、磁控靶及电源系统:

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