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磁控溅射仪样品台及磁控靶配置
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磁控溅射仪样品台及磁控靶配置

所属分类
薄膜制备设备 （PVD）
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产品描述
参数

1、设备真空室顶部的样品台安装法兰为CF200接口，并且是设置为由真空室中心向前偏心30mm。

2、运动部件：含空心单轴磁流体、可调速电机、皮带轮、支撑架等；电动旋转，转速可调可控，转速范围：0～50r/min；

3、偏压：含CF25单芯电极法兰一套，含偏压引线柱组件一套，配置绝缘陶瓷，安装位置绝缘处理；

4、样品安装：球壳外罩的底部设计为可拆卸式结构。底部的半球样品托盘与球壳外罩采用螺钉固定。

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