1、进样室系统： 1.1、真空指标： 进样室极限真空度≤5×10-6 Pa； 工作真空度：充入干燥氮气后，从大气开始抽真空，2小时内，真空度≤5×10-4 Pa。 1.2、进样室主体结构： 316L不锈钢材料，尺寸约Φ200×280mm，尺寸精度控制在±10mm。 1.3、样品库组件： 进样室上方安装可升降旋转样品库组件一套，其上可安装4个3英寸样品。 1.4、铰链门组件： 样品室有一个手动铰链门，门上带有观察窗，用于进样出样以及观察。 1.5、烘烤照明： 烘烤：采用真空室外缠绕烘烤带加热除气方式，对真空室烘烤去气； 照明：真空室内部采用碘钨灯方式照明，以便观察样品交接。 2、溅射室系统： 2.1、真空指标： 溅射室极限真空度≤5.0×10-8 Pa； 2.2、溅射室主体： 316L不锈钢材料，尺寸：内直径约SΦ500mm±10mm。 2.3、样品架组件： 样品尺寸为3英寸，一次安装一个样品，采用辐射电阻加热，程序控温。基片配有加直流负偏压电源。 2.4、磁控靶组件： Lesker进口全金属密封磁控靶（3英寸强磁靶，型号：TM3UM096BX）1套，配套专用直流电源（型号：PD500×2）1台，功率1000W，靶上配有电动控制挡板。 2.5、气路组件： 2路进气，采用316L型内表面抛光洁净1/4英寸管道，Swagelok手动阀门控制，VCR接口，MKS质量流量控制器（0～50sccm，Ar气标定），配合电脑控制气体流量。 2.6、压力控制系统： 压力规采用进口美国Inficon薄膜规，型号：CDG025，量程0.1Torr，CF16法兰接口，带有通讯接口；可控阀门：采用进口瑞士VAT的电动闸板阀，型号为：CF150电动闸板阀，与薄膜规一起实现腔体压力控制。 2.7、烘烤照明组件： 烘烤：真空室内部采用烘烤灯组件，外部缠绕烘烤带加热除气的方式，对真空室进行烘烤除气； 照明：在真空室外部，采用冷光源进行照明，以便观察镀膜状态和样品交接。 3、样品传递与交接系统： 传递杆组件：安装磁力传递杆，可通过磁力传递杆从进样室交接样品到溅射室进行镀膜实验，镀膜完成后在将样品的传出。 4、电控系统： 控制系统主要通过计算机作为人机交互接口实现对系统进行控制、运行状态的监视、现场个数据的集中显示以及系统的连锁保护等功能。控制系统由人机交互接口（计算机）、控制单元（PLC、功率驱动模块）、检测单元（限位开关、传感器）、执行单元（电机、泵、阀）等组成。 5、辅助系统： 主要为分子泵、磁控靶冷却，主要包含冷却水机（甲方自备）、分水器，水路、阀门、断水报警等组成。