技术要求及指标：1、真空系统：1.1、系统极限真空度优于2.0×10-4Pa，系统漏率优于6.7×10-7Pa·L/s；1.2、分子泵正常工作20分钟后，真空度要求达到：3×10-3Pa；2、真空腔体：2.1、内腔净尺寸SФ600球型真空室，材质为304不锈钢（带水冷）；2.2、前开门结构，方便取放样品；3、MEVVA源（共两套）；4、脉冲磁过滤等离子源（共三套）；5、工件架：5.1、共有一套样品架，样品为叶片样品，一次只安装一个； 5.2、样品具有自转功能，通过磁流体进行传动和密封，自转速度：0～200转/分，伺服电机控制； 5.3、样品需要加热，样品对面和底部有铠装加热盘，程序控温，PID调节。6、气路系统：三路进气，采用质量流量控制器控制。7、设计系统具有断水报警，切断相应电源功能。8、系统带有计算机控制系统，主要控制：8.1、真空度的采集；8.2、样品的自转控制；8.3、样品的加热控制；8.4、气体流量的采集和控制；8.5、泵、阀门的控制等；8.6、弧源、偏转电源、偏压电源、弧头磁场电源、MEVVA源电源和靶负压电源的供电控制；8.7、系统具有样品超温、断水报警保护功能。