ZF- 550 电子束/热蒸发真空镀膜系统
ZF- 550 电子束/热蒸发真空镀膜系统
一、用途：保密。
二、技术指标：
1. 蒸镀室极限真空度：5×10-5Pa,系统漏率：1×10-7PaL/S；压升率：停泵关机12小时后真空度小于等于5Pa；
2. 腔体内两套蒸发装置，一套为热蒸发；另外一套为电子束蒸发系统；
3. 热蒸发装置为两个蒸发舟，含加热和控温装置，控温精度要求：±1℃程序可控；
4. 两个蒸发源分别为：大蒸发源内径为6cm高度为7.5cm圆柱状蒸发源，小蒸发源内径为2cm高度为2.5cm蒸发源；
5. 大小蒸发舟的加热温度为200~900℃；控温精度为±1℃，程序控温；最大温差：5 ℃以内，平衡时间：3分钟以内，升温速率：1～20℃/分钟可调可控；
6. 三个蒸发系统的蒸发面在同一水平面上，蒸发系统表面距样品表面中心的高度距离为250±50mm；
7. 工件架：在腔体内保证样品的法线方向与铅垂直方向的夹角在15°～45°之间连续可调，在调节杆上作出角度调节标记，以方便调节；
8. 工件架：公转架转速（即换位转速）在0～30 转/分钟, 自转架转速在0-60转/分钟之间程序可调；
9. 工件架上的样品基片可以通过红外灯进行加热，加热温度从室温到200℃程序可调可控；
10. 基片架中心和蒸发源之间的距离的调节范围为200～300 mm；在调节杆上标注出蒸发源口离样品中心的垂直距离；
11. E型电子枪：功率8Kw、270°，坩埚容量：4×7cc ；
12. 计算机控制系统:具有样品旋转控制功能、热蒸发蒸发舟加热控制功能、蒸发舟挡板控制与开启功能、电子束蒸发系统的采集功能、电子束蒸发系统挡板的控制与开启功能、膜厚测试仪挡板的控制和开启功能、真空度的采集功能。
三、主要组成：
该蒸镀设备主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、热蒸发源系统、E型电子枪及控制电源系统、膜厚测试系统、挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及计算机控制系统、台架系统、辅助系统等组成。
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