PLD系统
所属分类
薄膜制备设备 (PVD)
产品描述
参数
一、技术指标:
1. 激光溅射沉积室,极限真空度优于:⒍6×10E-5Pa;工作真空度:40分钟内从大气抽到5×10-4Pa;系统漏率为:1×10-7PaL/s;
2. 激光束扫描装置:具有两个自由度;
3. 样品架可加热及连续旋转,加热温度:800ºC±1ºC,旋转速度为:0~60转/分;样品最大尺寸为Ф60㎜一个; 计算机控制转速;
4. 激光靶材尺寸:Ф50×5㎜;尺寸可调;共四块,四块靶材可公转换位同时靶材可自转,自转速度为:0~60转/分,连续旋转;计算机控制;
5. 真空抽气采用600升/秒分子泵+8升/秒机械泵;
6. 激光溅射沉积室尺寸:Ф450球型结构,箱体上开有连接激光靶、样品架、真空闸板阀、气路阀等法兰接口。
二、系统组成:
主要由激光沉积室、真空抽气及测量系统、样品台及加热旋转系统、激光旋转靶台系统、窗口与法兰组件系统、激光束扫描系统、电控系统、配气系统、辅助系统等部分组成。
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超高真空脉冲激光溅射沉积室系统
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脉冲激光沉积系统
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