脉冲激光沉积系统
所属分类
薄膜制备设备 （PVD）
产品描述
参数
一、技术指标
1. 激光旋转靶台（四靶）1套 靶材尺寸：Ø20，厚度¼´。激光靶可安装4块，可自转及公转，由步进电机及电源控制；镀膜时，只有一个靶材可以溅射，靶材有磁力挡板；
2. 样品架可加热及旋转，样品尺寸为Ø50；一次只能放置一个样品，样品台含有自锁功能，能轻松灵活进行样品交接。样品台可以前后移动，与转靶调整距离为40mm-100mm。样品台含有加热功能，可对样品进行加热，加热温度：900°C；
3. 进样室一个，在样品室上有观察进样窗，真空规，抽气接口；
4. 磁力进样轴一个，样品托一套；
5. CF100手动插板阀一个。
二、系统组成
系统主要由激光氮化系统及激光沉积系统两部分组成，两套系统为完全独立系统，独立泵抽机组、独立激光扫描系统、独立控制系统等。
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PLD系统
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激光分子束外延进样室改造
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