开放式金属有机物化学气相沉积系统
一 、技术指标:
该设备主要采用在真空下，对样品加热作为CVD反应的环境和条件，通入反应气体，在板状样品表面沉积薄膜。
主要由真空抽气及测量系统、加热及控温系统、原料供应系统、样品台系统、气路系统、辅助系统、电控系统等组成。
在抽气过程中，如系统突然暴露大气，应能处于保护状态，避免部件的损坏。停电停水、以及系统不能维持真空状态，设备带有保护装置，整个系统连锁保护。
1、真空抽气及测量系统：
系统要求工作室真空度在5 Pa以下，为此我们采用的是成都南光生产的8L/s的直连式机械泵作为主抽泵，配有前级抽气阀门、三通管道、波纹管管道、真空规计、机械泵上方的电磁压差阀（防止返油）等。
同时机械泵与真空室连接的DN35闸板阀为手动，可进行排气流导大小调节控制，实现反应室压力控制。闸板阀上有刻度，便于控制阀门开启程度。
在反应室与泵抽系统之间，先后安装有粉尘收集器和液氮冷阱，保护阀及机械泵不受污染。
压力测量：压力传感器选用国内杭州润辰科技有限公司的产品：压力范围：1Pa～0.1MPa；型号为：PRC905，供电24VDC，输出：4-20mA，精度：0.5%，接口M20×1.5；通过调节抽气阀门的流导实现节流，控制反应室的压力。
低真空测量采用成都睿宝电阻规测量，安装在真空室上。
2、反应室系统：
2.1尺寸结构：
采用卧式不锈钢圆筒形前开门结构，壁厚为5mm，内径尺寸为：ø250×300mm，一端为封头焊接结构，一端为前开门结构，方便更换样品。
在真空室的斜上方安装气路喷头，正上方留出相同尺寸的法兰，在真空室的中心下部，安装可加热样品台。
在真空室前开门上开有Dg50观察窗，用于观察真空室内部。
在真空室上，开有KF16法兰接口，用于气路备用进气口；
在真空室上开有Dg100法兰接口一个，用于备用；
真空室开有一个Dg10法兰接口，用于连接压力传感器（接口为M20×1.5）；
在真空室圆周45°斜上方对准样品位置，对称开有两个通导为ø100mm的石英观察窗，用于激光导入；
在真空室下方适当位置，开有KF40法兰接口，用于连接机械泵抽气。
3、样品台系统：
样品台（Φ120mm）每次只镀一个平面样品（直径Φ100 mm），可对样品加热，电动旋转。
样品台距喷头距离在30mm～60mm可调。
3.1安装：样品台安装真空室的气体喷口的正下方，样品被镀面向上。
3.2要求：样品可加热1000℃；
3.3实施方案：
方案：采用辐射电阻加热方式，实现样品的加热，加热温度为室温到1000℃，控温精度±1℃。
为了保证样品的温度和均匀性，样品加热炉通过铁铬铝加热丝进行加热。
样品台元件以及屏蔽要防氧化材料。
高精度加热测温控温电源一台，控温表一台，陶封引线电极及测温热电偶各一套,加热采用程序控温，PID调节。
挡板：喷头下方、样品加热炉上方带有手动挡板一套，挡板尺寸要大于加热炉尺寸。
采用电机带动，样品台旋转方式，转速0～30（转/分）可控。
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