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PECVD Ⅲ 等离子体增强管式气相沉积设备
67

PECVD Ⅲ 等离子体增强管式气相沉积设备

所属分类
PECVD
67
产品描述
参数

1、反应室：200×250（mm）为圆筒式双层水冷不锈钢结构。正前面安装一个150铰链观察窗（窗直径50毫米）和挡板，同时，该窗口带有铰链结构，以便进行样品的更换；

2、在真空室的正上方，安装Rf电容耦合系统；

3、在真空室的正上方，通入一路混合反应气体，和液化后气体，气体引入口2个；

4、在真空室的正下方，安装可升降式加热样品台，基片台接口1个； 

5、CF 35 电极引入口1个，分子泵抽气口1个.各法兰密封口均采用氟橡胶圈和无氧铜圈密封。

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