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化学气相沉积设备（CVD）

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PECVD

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等离子体渗氮实验炉

所属分类

PECVD

一、主要用途：保密。二、技术指标：1、真空室采用不锈钢立式钟罩式结构，真空室内径尺寸为Ф400×450mm；真空室上部设置Ф200预留法兰；2、系统极限真空度优于5×10-6Pa，工作前的静真空5×10-5Pa；设备总漏率小于10-7Pa.L/S，恢复真空时间小于3小时；3、配备4kW的加热电源及温度控制器一套，对真空室进行加热控温，配置铠装热电偶对真空室温度进行测量，测温最高加热温度300℃±1

产品描述

参数

一、主要用途：保密。

二、技术指标：
1、真空室采用不锈钢立式钟罩式结构，真空室内径尺寸为Ф400×450mm；真空室上部设置Ф200预留法兰；
2、系统极限真空度优于5×10-6Pa，工作前的静真空5×10-5Pa；设备总漏率小于10-7Pa.L/S，恢复真空时间小于3小时；
3、配备4kW的加热电源及温度控制器一套，对真空室进行加热控温，配置铠装热电偶对真空室温度进行测量，测温最高加热温度300℃±1℃；
4、样品尺寸为：Ф8～Ф30mm不等；
5、样品可加热温度为：室温～500℃，测温探头置于样品台陶瓷板预留孔内，控温精度为：±1℃；程序控温，PID调解，可设可控；
6、10 kW中频脉冲偏压电源一套，频率30-60kHz，占空比10-80%可调，最大电压3kV，电压可调；电源具有过流、过热、缺水、打火保护及自动灭弧功能；
7、射频电源，功率要求为2kW，通过射频引入极引入真空室，射频电源配置自匹配控制调节装置；
8、真空供气系统由三路质量流量计组成。供气系统三路进气，可实现不同气体按比例供给，进入真空室前混合充分；进气口设置为环真空室顶部，确保进气均匀；
9、设备具有断水断电联锁保护功能；
10、射频电极靶靶面水冷均匀，液氮冷阱确保使用方便安全；

三、系统组成：
该系统主要由真空室系统、加热及控制系统、气体控制系统、电控系统、报警系统、台架系统等组成。