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化学气相沉积设备 （CVD）
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GDP/Ge涂层装置
69
254-1
254-2

GDP/Ge涂层装置

所属分类
PECVD
69
254-1
254-2
产品描述
参数

系统真空度：

1) 真空抽气机组共两套： 采用进口干泵＋国产防腐分子泵对沉积室抽真空；

2) 极极限真空：系统极限真空度≤6.7*10-5Pa，恢复真空：≤6.7*10-4Pa；从一个大气压（充入干燥氮气，不打开真空室）至6.7×10-4Pa≤2h；

3) 系统漏率：5×10-7Pa.L/s。

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