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自加热超导薄膜系统

所属分类
CVD
自加热超导薄膜系统一、设备用途:   在低真空条件下,通过自加热方式对基带进行加热,并通入工艺气体,在基带收放过程中对基带表面进行镀膜。二、技术指标:1、整体结构:  采用直线排布结构,详细排布见下图。  设备两端分别为两个辅助加热室(反应室一、反应室八),收放卷之间通过八个独立的工艺反应室进行连接,每个真空室有独立的抽气管道;  在反应室一、反应室八中各有两个加热电极轮,两个电极轮呈上下排布,上
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产品描述
参数

自加热超导薄膜系统

一、设备用途:

    在低真空条件下,通过自加热方式对基带进行加热,并通入工艺气体,在基带收放过程中对基带表面进行镀膜。

二、技术指标:

1、整体结构:

    采用直线排布结构,详细排布见下图。

    设备两端分别为两个辅助加热室(反应室一、反应室八),收放卷之间通过八个独立的工艺反应室进行连接,每个真空室有独立的抽气管道;

    在反应室一、反应室八中各有两个加热电极轮,两个电极轮呈上下排布,上面的为主加热电极轮,下面的为辅助加热电极轮,反应室一、八中的主加热轮组件与基带以及电源系统构成主加热回路,反应室一中的主加热轮组件、辅助加热轮组件、基带以及辅助加热电源系统构成辅助加热回路,反应室八中的主加热轮组件、辅助加热轮组件、基带以及辅助加热电源系统构成辅助加热回路;

    基带水平运动,反应室一与反应室二直接连接,反应室七与反应室八通过短波纹管连接;

    气氛通过流量计分别进入八个反应室中,通过流量计对进入反应室的流量进行调节;

    反应室和收放卷室带有独立的台架支撑系统;

    设备带有计算机控制系统,进行收放卷控制、加热控制、压力控制等。

2、抽气系统:

2.1、系统真空度能达到1Pa以下;

2.2、采用直连式机械泵和罗茨泵抽气机组;

2.3、抽气能力要达到300L/S以上(以6米长炉子计);

2.4、采用大管径抽气管路对各个腔室进行抽真空,大管径抽气管路提供了大的流导,使管路长度等因素对抽速的影响大大降低,保证了抽气的均衡性。

3、自加热系统:

    主要由基带主加热系统和辅助加热系统组成:

3.1、基带主自加热温度>900℃;辅助加热系统温度为:室温~700℃。

3.2、自加热温度曲线分为三部分:升温、保温、降温。升温速率为100℃~1000℃/分钟,可调,达到保温温度;保温时间约60分钟;降温;

3.3、基带采取前期和后期辅助加热方式,防止温度突变。

4、基带收放系统:

4.1、卷对卷系统要张力稳定可控,可实现<1Kg张力的稳定控制;

4.2、卷对卷要能保证稳定不跑偏,实现1000米顺利走带。

5、气氛系统:

5.1、系统工作压力为20Pa~2Kpa;

5.2、系统工作压力的调整可采取薄膜压力计和可控门阀进行自动闭环控制;

5.3、要分段进气,保证气体基本均匀且垂直带子方向流过带子表面;这要保证每段进气基本平衡且每段进气内部也要平衡,例如段内可以采用多孔结构;

5.4、工作气氛分为干式、湿式两种;干式气氛为氧气和氮气混合气体;湿式气氛为水汽、氧气、氮气混合气体。干式、湿式气氛都通过流量计精确控制工艺气体流入量,并且在进入工艺反应室前混合均匀;

5.5、湿式气氛:氧气总流量为0~1L/min;N2总流量:0~10L/min; 水汽总流量:0~1L/min;每路混合气体流量为0~2L/min;

干式气氛:每路氧气流量为0~200ml/min; 每路N2流量:0~2L/min。

6、设备采用计算机控制系统,实现设备工作工艺的自动化。

7、设备带有断水断电以及误操作联锁保护装置。

8、实验室自备冷却水系统。

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