一、主要用途：用途保密。二、技术指标：  1、整机漏率1*10-10Pa.m3/s；  2、球形真空室：尺寸约为Φ700，三个弧源，一个离子源；  3、转靶靶台与真空室绝缘，耐压值大于1000V；  4、真空室是非磁性材料；  5、工件架五套：二套平面、二套柱面、一套斜面；  6、实现电控控制功能。三、系统组成：该系统主要由真空抽气及测量系统、真空室系统、离子源接口、工件架系统、控制系统等组成。