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原位反射光谱研究系统

主要技术指标:1、整体结构:1.1、系统整体漏率:优于1×10E-11Pa·m3/s;1.2、样品传输采用手动磁力送样系统,实现样品在手套箱、溅射室、反应室之间传递;2、手套箱系统:2.1、单工位操作,带有一个进样过渡舱及一个出料接口;2.2、手套箱可长期维持负压,手套箱内部气体压力维持负400Pa(以大气压为基准),压力偏差范围负200Pa~负600Pa;3、溅射室系统:3.1、极限真空度优于8
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产品描述
参数
主要技术指标:
1、整体结构:
1.1、系统整体漏率:优于 1×10E-11Pa·m3/s;
1.2、样品传输采用手动磁力送样系统,实现样品在手套箱、溅射室、反应室之间传递;
2、手套箱系统:
2.1、单工位操作,带有一个进样过渡舱及一个出料接口;
2.2、手套箱可长期维持负压,手套箱内部气体压力维持负400Pa(以大气压为基准),压力偏差范围负200Pa~负600Pa;
3、溅射室系统:
3.1、极限真空度优于8.0×10E-6 Pa;系统漏率为:1×10E-11Pa·m3/s;
3.2、溅射室下方安装有四维运动样品台,实现样品的传递与交接;
4、反应室系统:
4.1、极限真空度优于8.0×10E-6 Pa;系统漏率为:1×10E-11Pa·m3/s;
4.2、反应室下方安装有五维运动样品台,实现样品的传递与交接;
4.3、样品加热温度:室温到600℃,程序控温,控温精度±0.5℃,加热器件耐氧化;
5、样品传递系统:
5.1、两套磁力交接杆,手套箱与溅射室间样品传递,溅射室与反应室间样品传递;
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