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磁控溅射仪
TA22-02D

磁控溅射仪

所属分类
薄膜制备设备 （PVD）
TA22-02D
产品描述
参数

1、真空抽气及测量系统

1.1、极限真空度≤6.0×10-6Pa（经烘烤除气，24h后达到该真空指标）。

1.2、系统漏率≤1.0×10-7Pa·L/s。

1.3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，30分钟可达到6.7×10-4Pa。

2、真空腔室系统

2.1、真空腔室采用单室圆筒形上盖电动升降结构，方便物料的取放和实现样品台的拆装、清洗。

2.2、真空腔室尺寸约Ф450mm×高420mm，选用304不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行电解抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封。

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